Intel marca la gran inauguración de la expansión de la fábrica de $ 3B en Oregon

La compañía celebra su historia en innovación al cambiar el nombre del campus de Ronler Acres en honor al cofundador de Intel, Gordon Moore.

Qué hay nuevo: Intel celebró hoy la gran inauguración de la última expansión de D1X, su fábrica de vanguardia en Hillsboro, Oregón. En una ceremonia de corte de cinta a la que asistieron altos funcionarios gubernamentales y líderes comunitarios, el CEO de Intel, Pat Gelsinger, destacó el impacto positivo de la compañía en Oregon y reiteró su compromiso con el liderazgo de Estados Unidos en investigación y desarrollo de semiconductores (I + D). En honor a la herencia de innovación del sitio, Intel también anunció un nuevo nombre para el campus de casi 500 acres: Gordon Moore Park en Ronler Acres. El nuevo nombre reconoce las contribuciones únicas del sitio para impulsar la Ley de Moore, la predicción de 1965 del cofundador de Intel, Gordon Moore, que ha guiado la innovación en la industria de semiconductores durante más de 50 años.

"Desde su fundación, Intel se ha dedicado a promover implacablemente la Ley de Moore. Este nuevo espacio de fábrica reforzará nuestra capacidad para ofrecer la hoja de ruta de proceso acelerado requerida para respaldar nuestra audaz estrategia IDM 2.0. Oregon es el corazón desde hace mucho tiempo de nuestra I + D global de semiconductores, y no se me ocurre mejor manera de honrar el legado de Gordon Moore que otorgando su nombre a este campus, que, como él, ha tenido un papel tan tremendo en el avance de nuestra industria ".

–Pat Gelsinger, CEO de Intel

Por qué es importante: Gordon Moore Park es la sede de la organización global de Desarrollo de Tecnología de Intel, que es responsable de avanzar en la Ley de Moore mediante la creación de nuevas arquitecturas de transistores, procesos de obleas y tecnologías de empaquetado que sustentan la hoja de ruta de productos de la compañía y proporcionan la base para aplicaciones que van desde computadoras personales hasta infraestructura en la nube y redes 5G. El equipo de aproximadamente 10,000 empleados, principalmente con sede en Hillsboro, es ampliamente reconocido como una de las organizaciones de ingeniería de procesos de silicio preeminentes del mundo.

Durante los 25 años de historia del campus, los ingenieros y científicos se han enfrentado continuamente, y luego han superado, los desafíos planteados por la física cuando las características de un chip se reducen al tamaño de los átomos. Con inventos como la tecnología de compuerta metálica de alta k, los transistores 3D de tres puertas y el silicio tensado, Intel ha entregado constantemente innovaciones de procesos fundamentales para mantener el ritmo de la Ley de Moore.

"Todas estas innovaciones de proceso innovadoras se originaron aquí en Oregón. Con la nueva expansión de nuestra fábrica D1X, Oregon está bien posicionada para ofrecer la próxima generación de tecnologías de vanguardia", dijo Ann Kelleher, vicepresidenta ejecutiva y gerente general de Desarrollo de Tecnología. "Los semiconductores son fundamentales para el liderazgo tecnológico de Estados Unidos, nuestra economía y la resiliencia de la cadena de suministro. Intel es la única compañía en el mundo con la mayoría de su I + D de procesos y empaques y fabricación de semiconductores de vanguardia de alto volumen en los Estados Unidos".

El año pasado, Intel dio a conocer una de las hojas de ruta de tecnología de procesos más detalladas de su historia. La compañía se ha movido a un ritmo acelerado de innovación para permitir una cadencia anual de mejoras, aprovechando las tecnologías innovadoras que impulsarán nuevos productos hasta 2025 y más allá, que incluyen:

  • RibbonFET, la primera nueva arquitectura de transistores en más de una década.
  • PowerVia, un nuevo método de entrega de energía en la parte trasera por primera vez en la industria.
  • El primer uso de la industria de la litografía de próxima generación High NA EUV .

Cómo funciona: Con "Mod3", una inversión de más de $ 3 mil millones para expandir D1X, los ingenieros de Intel ahora tienen 270,000 pies cuadrados adicionales de espacio en salas limpias para desarrollar tecnologías de proceso de silicio de próxima generación. En un momento dado, múltiples tecnologías de procesos lógicos se encuentran en varias etapas del ciclo de desarrollo en la fábrica D1X. El equipo de Desarrollo de Tecnología crea la tecnología de fabricación de referencia necesaria para llevar las innovaciones al mundo físico. Las nuevas tecnologías de proceso se transfieren de manera idéntica desde esta fábrica de desarrollo central en Oregón a la red global de sitios de fabricación de alto volumen de Intel. Después de la transferencia, la red de fábricas y la fábrica de desarrollo colaboran para continuar impulsando mejoras operativas. Esto permite una rampa rápida de la operación, un aprendizaje rápido y un mejor control de calidad.

Acerca de Intel en Oregón: Esta última expansión se basa en los casi 50 años de historia de Intel de invertir en Oregón. Las operaciones de Intel en Oregón son su mayor concentración de instalaciones y talento en el mundo, con cerca de 22,000 empleados en cuatro campus en Hillsboro, a 20 millas al oeste de Portland. La expansión de Mod3 eleva la inversión total de Intel en Oregón a más de $ 52 mil millones. Según los datos de 2019, la huella económica directa más significativa de Intel se encuentra en Oregón. Con sus empleados, una vasta red de contratistas y proveedores locales, inversiones de capital y otros impactos posteriores, el impacto anual total de Intel es de más de 105,000 empleos, más de $ 10 mil millones en ingresos laborales y $ 19 mil millones en producto interno bruto.

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La letra pequeña:

Las declaraciones de este documento en lo que respecta a planes o expectativas futuros son en vistas al futuro. Estas declaraciones se basan en las expectativas actuales e implican muchos riesgos e incertidumbres que podrían generar que los resultados reales difieran considerablemente con aquellas declaraciones expresadas o implícitas. Para obtener más información sobre los factores que podrían causar que los resultados reales difieran materialmente, consulte la publicación de ganancias más reciente de Intel y las presentaciones ante la SEC en www.intc.com.